平面抛光研磨机械设备的工作原理有哪些
作者：
数控双面研磨机
【
原创
】
2025-05-06
平面抛光研磨机械设备的工作原理，依据设备结构和应用工艺的不同，主要可归纳为以下几种类型，每种原理适用于不同精度和表面处理要求的平面工件（如金属、陶瓷、玻璃、晶圆、塑料等）：
一、双面研磨抛光原理
平面抛光研磨机械工作原理：
工件夹持在上下两个磨盘之间，通过 上下盘反向旋转 实现均匀磨削或抛光；
工件在行星齿轮系统或游星轮中运行，实现自转+公转，提高平整度和效率；
通常配合使用研磨液或抛光液（含磨粒）。
平面抛光研磨机械特点：
精度高（可达μm级甚至nm级）；
适用于金属、陶瓷、硅片、玻璃等高精度要求工件；
适合高平面度 + 高平行度控制。
二、单面抛光/研磨原理
工作原理：
工件放置于一个旋转工作盘上，顶部有抛光头/压块施压；
利用抛光垫或研磨盘，加压+旋转对工件进行单面处理；
抛光液/研磨液持续注入。
平面抛光研磨机械特点：
操作简单，适合大尺寸或单面要求高的工件；
适用于平板玻璃、镜片、压电陶瓷等；
抛光效果受工件重心和分布影响较大。
阅读
推荐
-
-
QQ空间
-
新浪微博
-
人人网
-
豆瓣
